COLD PLASMA - THIẾT BỊ KHỬ MÙI COLD PLASMA DẠNG PHUN

COLD PLASMA – THIẾT BỊ XỬ LÝ KHỬ MÙI BẰNG COLDPLASMA dạng phun

Thiết bị khử mùi Cold Plasma dạng phun là giải pháp xử lý mùi tiên tiến, sử dụng công nghệ plasma nhiệt độ thấp để tạo ra các gốc oxy hóa mạnh (OH•, O•, O₃ nồng độ thấp…) và các ion hoạt tính. Các hạt plasma được phun trực tiếp vào dòng khí thải, nhanh chóng phân hủy các hợp chất gây mùi như H₂S, NH₃, VOCs và các chất hữu cơ bay hơi thành CO₂, H₂O cùng các chất vô hại khác.

Nhờ cơ chế xử lý bằng phản ứng oxy hóa, thiết bị có khả năng khử mùi hiệu quả mà không cần sử dụng hóa chất, đồng thời hạn chế phát sinh chất thải thứ cấp. Công nghệ này phù hợp với nhiều ứng dụng như nhà máy chế biến thực phẩm, bếp công nghiệp, nhà hàng, khu xử lý rác, hệ thống nước thải và các cơ sở sản xuất có phát sinh mùi.

Với thiết kế nhỏ gọn, trọng lượng nhẹ và cấu tạo dạng module, thiết bị dễ dàng lắp đặt trên hệ thống đường ống hoặc tích hợp vào các hệ thống xử lý khí thải hiện hữu mà không cần cải tạo nhiều. Thiết bị có mức tiêu thụ điện năng thấp, vận hành ổn định, độ bền cao và yêu cầu bảo trì tối thiểu, giúp giảm chi phí vận hành cũng như tối ưu không gian lắp đặt. Đây là giải pháp khử mùi hiện đại, hiệu quả và thân thiện với môi trường cho nhiều loại hình công trình và nhà máy.

Liên hệ
Thông tin chung
Thông số kỹ thuật
Tài Liệu
Video

Nguyên lý khử mùi bằng Cold Plasma

Phóng điện Plasma tạo ra các gốc oxy hóa có khả năng oxy hóa mạnh. Các gốc oxy hóa này phản ứng hóa học với các phân tử gây mùi trong dòng khí (phản ứng oxy hóa), phân hủy chúng thành các chất vô hại như CO₂ và H₂O, từ đó loại bỏ mùi hiệu quả.

Plasma là trạng thái thứ tư của vật chất, trong đó các phân tử khí bị ion hóa, tách thành các ion dương và electron tự do chuyển động. Ở trạng thái này, nhiều thành phần hoạt tính có tính phản ứng cao được tạo ra, giúp thúc đẩy quá trình oxy hóa và phân hủy các hợp chất gây mùi một cách nhanh chóng.

Trong tự nhiên, tia sétcực quang là những ví dụ điển hình của trạng thái plasma. Công nghệ Cold Plasma ứng dụng nguyên lý này ở nhiệt độ thấp, đảm bảo hiệu quả khử mùi cao, an toàn cho hệ thống xử lý khí và không làm tăng đáng kể nhiệt độ của dòng khí.

Đặc điểm nổi bật

1. Khả năng khử mùi mạnh mẽ

Nhờ công nghệ phóng điện đặc biệt, thiết bị tạo ra một lượng lớn các gốc hoạt tính có khả năng oxy hóa cao. Các gốc hoạt tính này nhanh chóng phân hủy các hợp chất gây mùi, mang lại hiệu quả khử mùi vượt trội.

2. Tiết kiệm năng lượng

Công nghệ phóng điện tiên tiến cho phép tạo ra lượng lớn các chất hoạt tính chỉ với mức tiêu thụ điện năng thấp, giúp giảm chi phí vận hành trong khi vẫn duy trì hiệu suất xử lý cao.

3. Công nghệ phun (Injection Method)

Các thiết bị khử mùi Plasma nhiệt độ thấp kiểu dòng khí đi qua (Pass-through) truyền thống dễ bị bụi và sương dầu trong khí thải bám vào bên trong, làm suy giảm hiệu suất và tiềm ẩn nguy cơ cháy nổ.

Thiết bị của chúng tôi sử dụng công nghệ phun (Injection Type), đưa trực tiếp các hạt Plasma hoạt tính vào dòng khí mà không để khí thải đi qua bên trong thiết bị. Nhờ đó, thiết bị không bị bám bụi, dầu mỡ, duy trì hiệu suất ổn định trong thời gian dài, giảm yêu cầu bảo trì và nâng cao độ an toàn khi vận hành.

 

 

 

Tài Liệu

Catalogue

Video